中微公司(688012)：刻蚀+MOCVD设备龙头 迈向平台化发展

　　投资要点：

公司概况：国内刻蚀设备+MOCVD 龙头，成功打破国外垄断中微公司是国内刻蚀设备龙头企业，全面覆盖半导体刻蚀应用；公司的MOCVD 设备已经在蓝绿光LED 生产线上占据绝对领先的市占率。公司开发的可调节电极间距的CCP 刻蚀机Primo SD-RIE 已进入国内领先的逻辑芯片制造客户开展现场验证；公司针对超高深宽比刻蚀自主开发的具有大功率400kHz 偏压射频的Primo UD-RIE 已经在生产线验证出具有刻蚀≥60：1 深宽比结构的能力；ICP 刻蚀设备中的Primo Nanova 系列产品在客户端安装腔体数近三年实现>100%的年均复合增长。

行业格局：半导体设备行业景气度有望回升，国产化替代扬帆起航全球半导体设备规模随5G、AI 等新兴技术的崛起不断扩大，2023年受下游芯片周期疲软和终端库存过高的影响市场规模有所下降，预计2024 年需求回暖，全球半导体设备市场规模达1053 亿美元。根据半导体行业观察援引Knometa Research 数据，中国市场晶圆产能不断提升，2026 年有望占据榜首带动半导体长期需求。

公司产品：三维战略稳步推进，产品面向国内外客户群体公司稳步推进三维战略，刻蚀设备和MOCVD 设备维持竞争优势。

CCP 刻蚀设备实现多批次销售，大马士革刻蚀工艺进展顺利。公司ICP技术设备类中的8 英寸和12 英寸深硅刻蚀设备Primo TSV 200E、Primo TSV 300E 在晶圆级先进封装、2.5D 封装和微机电系统芯片生产线等成熟市场继续获得重复订单的同时，在12 英寸的3D 芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证，并在欧洲客户12 英寸微机电系统芯片产线上获得认证的机会。MOCVD 设备布局行业前沿，针对Micro-LED 应用的专用MOCVD 设备开发顺利。公司新开发出4 款薄膜沉积产品。

    　　盈利预测与投资建议

我们预计公司将在24-26 年实现营业收入82/109/139 亿元，对应当前PS 估值14/11/8 倍，实现归母净利润17/23/29 亿元，对应当前PE估值69/50/39 倍。我们认为公司作为刻蚀设备行业龙头，而且薄膜沉积多类新设备也开始获得订单，具备平台型设备公司实力。首次覆盖，给予“买入”评级。

    　　风险提示

下游客户资本性支出波动较大及行业周期性特点带来的风险，下游客户扩产不及预期的风险，政府补助与税收优惠政策变动的风险，行业竞争加剧的风险，产品研发/推广不及预期的风险。