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投资要点:
公司发布2025 年度业绩快报,符合我们预期:2025 年实现营业收入约123.85 亿元,同比+36.62%;预计实现归母净利润约21.11 亿元,同比+30.69%。同期公司研发投入约37.44亿元,同比+52.65%,研发费用率为30.23%。
刻蚀设备主业维持稳健增长,公司2025 年刻蚀设备实现销售98.32 亿元,同比+35.12%,收入占比约79.39%,为公司核心收入来源。1)行业需求侧来看,多重图案化与3D 存储结构升级持续提升刻蚀与沉积设备强度。逻辑制程由7nm 向5nm 及以下演进,3D NAND 由100+层向200+层、由单deck 向双/三deck 发展,带动单晶圆工艺步数及对应设备SAM提升至约1.7–2.0 倍,行业需求呈结构性扩张。2)公司在先进逻辑关键刻蚀及存储超高深宽比刻蚀环节实现稳定量产,CCP 覆盖高深宽比需求;面向下一代逻辑与存储的ICP 及化学气相刻蚀设备已具备单原子级加工精度与重复性。截至2025 年底,公司反应台累计装机超7,800 台,覆盖170 余条芯片及LED 产线。
公司薄膜业务增速显著快于整体,收入占比持续提升;产品矩阵延伸至多领域。公司LPCVD及ALD 设备2025 全年实现销售5.06 亿元,同比+224.23%,收入占比由2024 年的1.72%提升2.36pct 至4.09%。产品层面,公司已覆盖先进存储与逻辑器件的多款LPCVD、ALD设备,近两年新开发十余种薄膜设备并部分实现量产出货,LPCVD 累计出货超300 个反应台。外延方面,公司硅及SiGe EPI 设备进入量产验证,减压EPI 向先进制程延伸。化合物半导体及显示领域,公司保持GaN 基MOCVD 设备领先地位,布局SiC、GaN 功率器件及Micro-LED 方向,部分新品进入验证阶段,SiC 外延及红黄光LED 设备已付运客户端验证。
投资建议:考虑到公司25 年加强研发投入,我们调整2025 年归母净利润为21.11 亿元(前值为21.81 亿元)。先进逻辑制程推进与高层数3D NAND 演进带来工艺复杂度提升,推动单线设备投入强度与可服务市场持续扩张,有望提升公司中期业绩增长上限。在刻蚀和薄膜两条核心工艺主线上,公司已切入关键制程并形成批量应用基础,受益路径清晰,具备较强稀缺性与成长弹性。我们预计公司2025–2027 年归母净利润分别为21.11/31.58 /42.78亿元,对应同比增长30.7%/49.6%/35.4%,对应PE 分别为103.5x/69.2x/51.1x。维持"买入"评级。
风险提示:先进制程及存储扩产节奏不及预期;下游晶圆厂资本开支波动;新产品验证及放量进度低于预期;核心零部件及供应链稳定性风险。猜你喜欢
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