中微公司(688012)：新签订单高增 持续研发投入

　　事项：

    　　公司公布2024 年半年报， 2024 年上半年公司实现营收34.48 亿元（36.46%YoY），归属上市公司股东净利润5.17亿元（-48.48%YoY）。

    　　平安观点：

新签订单高增，持续研发投入：2024年上半年公司实现营收34.48亿元（36.46%YoY），归属上市公司股东净利润5.17亿元（-48.48%YoY，主要系2023年公司出售了持有的部分拓荆科技股票，产生税后净收益约4.06亿元，而2024年公司并无该项股权处置收益），扣非后归母净利4.83亿元（-6.88%YoY）。2024年上半年公司整体毛利率和净利率分别是41.32%（-4.57pctYoY）和14.97%（-24.7pctYoY）。其中，刻蚀设备收入为26.98亿元，同比增长56.68%，刻蚀设备占营业收入的比重由2023H1的68%提升至2024H1的78%。公司的另一重要产品MOCVD设备收入1.52亿元，同比下降49.04%，主要因为蓝绿光行业处于下降趋势。费用端：2024年上半年年公司销售费用率、管理费用率和财务费用率分别为5.86% （ -1.83pctYoY ） 、5.56% （ 0.78pctYoY ）和-1.43%（0.77pctYoY），公司费用率稳定。研发投入方面：公司继续保持较高的研发投入，与国内外一流客户保持紧密合作，相关设备产品研发进展顺利、客户端验证情况良好。2024年上半年公司研发投入9.70亿元，较上年同期的4.60亿元增加约5.10亿元，同比增长110.84%。新签订单方面： 2024 年上半年公司新增订单47.0 亿元， 同比增长约40.3%。其中刻蚀设备新增订单39.4亿元，同比增速约50.7%；LPCVD上半年新增订单1.68亿元，新产品开始启动放量。

刻蚀设备国内领先，国产替代稳步推进：1）CCP刻蚀设备：公司CCP刻蚀设备产品不断完善、丰富产品的性能， 继续保持竞争优势，PrimoAD-RIE、PrimoSSCAD-RIE、PrimoHD-RIE等产品已广泛应用于国内外一线客户的集成电路加工制造生产线。公司已有的产品已经对28　　纳米以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28纳米及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖。在存储器件方面，公司针对超高深宽比刻蚀自主开发的具有大功率400kHz偏压射频的PrimoUD-RIE已经在生产线验证出具有刻蚀≥60:1深宽比结构的能力。2）ICP刻蚀设备：公司的多款ICP设备在先进逻辑芯片、先进DRAM和3DNAND产线验证推进顺利并陆续取得客户批量订单。晶圆边缘Bevel刻蚀设备完成开发，即将进入客户验证，公司的TSV硅通孔刻蚀设备也越来越多地应用在先进封装和MEMS器件生产。

MOCVD设备市场领先，布局第三代半导体设备：Micro-LED应用的专用MOCVD设备开发顺利，实验室初步结果实现了优良的波长均匀性能，已付运样机至国内领先客户开展生产验证；用于碳化硅功率器件外延生产的设备正在开发中，已付运样机至国内领先客户开展验证测试；下一代用于氮化镓功率器件制造的MOCVD设备也正在按计划顺利开发中。

薄膜沉积设备取得阶段性进展，EPI进入工艺验证和客户验证阶段：公司目前已有多款新型设备产品进入市场，其中部分设备已获得重复性订单，其他多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进。公司钨系列薄膜沉积产品可覆盖存储器件所有钨应用，并已完成多家逻辑和存储客户对CVD/HAR/ALDW钨设备的验证，取得了客户订单。公司近期已规划多款CVD和ALD设备，增加薄膜设备的覆盖率，进一步拓展市场。公司组建的EPI设备研发团队，通过基础研究和采纳关键客户的技术反馈，已经形成自主知识产权及创新的预处理和外延反应腔的设计方案,目前公司EPI设备已顺利进入客户验证阶段，以满足客户先进制程中锗硅外延生长工艺的电性和可靠性需求。

投资建议：公司作为半导体设备国内领先企业，充分受益于半导体国产化。下半年是设备确认收入高峰期，结合公司的在手订单，维持公司此前盈利预测，预计2024-2026年公司归母净利润为20.73亿元/25.65亿元/31.60亿元，对应的市盈率分别为42倍、34倍、27倍。公司作为刻蚀设备和MOCVD双龙头，薄膜沉积设备及EPI设备产品研发进展顺利，维持“推荐”评级。

风险提示：1）下游客户扩产投资不及预期的风险。若下游晶圆厂和LED芯片制造商的后续投资不及预期，对相关设备的采购需求减弱，这将影响公司的订单量，进而对公司的业绩产生不利影响。2）新产品研发不及预期风险。若公司新产品研发不及预期，将影响公司长远发展。3）国际贸易摩擦风险。近年来，国际贸易摩擦不断。如果中美贸易摩擦继续恶化，公司的生产运营将受到一定影响