中微公司(688012)：高端刻蚀机付运量显著提升 LPCVD薄膜设备快速放量

事件：7 月17 日，公司发布2025 半年度业绩预告1)25H1 公司预计实现营业收入49.6 亿元，同比增长43.87%；归母净利润6.8-7.3 亿元，同比增长31.61%-41.28%；扣非后归母净利润5.1-5.6 亿元，同比增长5.54%-15.89%。

2）25Q2 公司预计实现营业收入27.87 亿元，同比+51.25%；归母净利润3.67-4.17 亿元，同比增长37.14%-55.82%；扣非后归母净利润2.12-2.62 亿元，同比变化-3.9%至18.80%。

25H1 研发投入同比+54%，新品开发周期缩短至2 年内25H1 公司研发投入14.92 亿元，同比+53.70%，占营收比重的30.07%，远超科创板10%-15%的平均水平。公司在研项目覆盖6 类设备，超20 款新品开发中，研发周期从3-5 年缩短至2 年以内，显著加速产品迭代。未来公司有望大规模推出更具竞争力的新设备，并快速实现市场化。

    　　刻蚀设备持续领跑，LPCVD 实现快速放量

1）刻蚀设备：25H1 公司高端刻蚀产品在先进逻辑和存储器件制造中的关键工艺付运量显著提升，并实现大规模量产。PrimoMenova12 寸刻蚀设备首个机台交付国内重要集成电路制造商，是晶圆厂金属化工艺的核心设备之一。25H1 公司刻蚀设备实现收入37.81 亿元，同比+40.12%。

2）薄膜沉积设备：公司自2024 年实现LPCVD 设备首台销售，全年收入1.56 亿元，25H1 该设备收入快速增长至1.99 亿元，同比+608.19%，标志着公司在薄膜沉积领域的技术突破已初见成效。

3）电子束检测设备：公司认为电子束检测是仅次于光刻机的高难度技术，涉及精密机械、离子源和复杂算法。尽管国内有数家企业布局，但国际竞争力仍不足。为此，中微成立超微子公司，已组建含10 名顶尖专家在内的50 人团队，研发进展顺利，致力于填补国产设备空白。

    　　投资建议：

我们预计公司2025-2027 年收入分别为119.42 亿元、153.53 亿元、186.59 亿元，归母净利润分别为23.64 亿元、31.31 亿元、41.14 亿元。采用PE 估值法，考虑到半导体行业国产替代趋势明确，公司作为设备端龙头有望获得更高份额，给予公司2025 年58倍PE，对应目标价219 元/股，维持“买入-A”投资评级。

    　　风险提示：

半导体设备国产化不及预期；下游晶圆厂扩产不及预期；研发节奏存在不确定性；海外制裁风险。